在SEMICON China 2025展会期间，中微半导体装置（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，股票代码“688012.SH”）宣布其自主研发的12英寸晶圆边缘刻蚀装置Primo Halona™正式发布。中微公司此款刻蚀装置的问世，实现了在等离子体刻蚀手段领域的又一次突破创意，标志着公司向关键工艺综合覆盖的目的再进一步，也为公司的高质量成长注入强劲动能。
此款12英寸边缘刻蚀装置Primo Halona™采用具有中微公司特色的双反应台设计，可灵活配置最多三个双反应台的反应腔，且每个反应腔均能同时加工两片晶圆，在保证较低生产成本的同时，满足晶圆边缘刻蚀的量产需求，从而实现更高的产出密度，提升生产效益。此外，装置腔体均搭载Quadra-arm机械臂，精准灵活，腔体内部采用抗腐蚀材料设计，可抵抗卤素气体腐蚀，为装置的稳定性与耐久性赠与保证。此外，Primo Halona™配备独特的自对准安装设计规划，不仅可提高上下极板的对中精度和平行度，还可有效减少因校准安装带来的停机维护时间，从而帮助用户改良产能，精益生产。在装置智能化方面，Primo Halona™赠与可选装的集成量测模块，用户通过该量测模板可实现本地实时膜厚量测，一键式实现晶圆传送的补偿校准，实现更好的产品维护性，大大提升后期维护效益。
中微公司晶圆边缘刻蚀装置Primo Halona™
据业绩快报显示，中微公司2024年营业收入约90.65亿元，较2023年增加约28.02亿元。公司在过去13年保持营业收入年均增长大于35%，近四年营业收入年均增长大于40%的基础上，2024年营业收入又同比增长约44.73%。其中，刻蚀装置收入约72.77亿元，在最近四年收入年均增长超过50%的基础上，2024年又同比增长约54.73%。
此外，中微公司持续加码创意研发，2024年在研课题广泛涵盖六大类装置，积极推进超过二十款新型装置的研发工作，并在半导体薄膜沉积装置领域不断突破，推出了多款LPCVD薄膜装置和ALD薄膜装置新产品，获得了重复性订单。公司新开发的硅和锗硅外延EPI装置等多款新产品，也会在近期投入范畴验证。
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探索不息，创意不止。一直以来，中微公司持续践行“五个十大”的企业艺术，将产品开发的十大原则始终贯穿于产品开发、设计和制造的全过程，研发团队秉持为达到装置高性能和用户严格要求而开发的观念，坚持手段创意、装置差异化和知识产权保护。
自2004年成立以来，中微公司致力于开发和赠与具有国际竞争力的微观加工的高端装置，现已成长成为国内高端微观加工装置的领军企业之一。中微公司综合竞争长处不断增强，聚焦提高劳动生产率，在2022年达到人均分销350万元的基础上，2024年人均分销超过了400万元，各项营运指标已达到国际先进半导体装置企业水平。
中微公司将继续瞄准世界领航国际资讯前沿，持续践行三维成长战略，塑造更多具有国际竞争力的手段创意与差异化产品，为用户和范畴赠与性能优越、高生产效益和高性价比的装置解决规划。
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